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世界各地的發(fā)電廠都開始采用Ionpure CEDI來取代混床生產(chǎn)去離子水。
1. 無需化學(xué)藥劑再生。在要求減少化學(xué)品和廢水排放的同時(shí),環(huán)保、健康和安全規(guī)范變得日益嚴(yán)格。
2. 連續(xù)生產(chǎn) - CEDI系統(tǒng)不需要停機(jī)再生或更換(如果使用替換型去離子設(shè)備的話)。
3. 節(jié)省空間 - CEDI系統(tǒng)通常比IX系統(tǒng)需要的空間小,后者同時(shí)還需要一套中和系統(tǒng)。
4. 運(yùn)營成本 - CEDI系統(tǒng)的運(yùn)營成本只有電。
5. 初期投資 - 如果把IX系統(tǒng)所有配套的儲(chǔ)水罐、化學(xué)再生系統(tǒng)和中和系統(tǒng)都包括在內(nèi),CEDI 系統(tǒng)的成本比IX系統(tǒng)低。
水質(zhì)要求 | Ionpure CEDI |
電導(dǎo) < 0.1μS/cm | 10-16MΩ.cm |
停工時(shí)間最少 | 連續(xù)生產(chǎn),無需停機(jī)再生 |
硅 <10ppb | 95+%硅去除率 |
鈉<5ppb | 95+%鈉去除率 |
低運(yùn)行成本 | 無需化學(xué)藥劑,只需要電力 |
安全,盡量避免使用化學(xué)藥劑 | 無需化學(xué)藥劑,只需要電力 |
低維護(hù)量 | 相比混床 ,維護(hù)量極少 |
在上圖中,CEDI系統(tǒng)通常作為主要拋光設(shè)備。有時(shí)候出于備用的目的,在CEDI后面會(huì)設(shè)置一個(gè)混床以保證在CEDI系統(tǒng)維護(hù)期間系統(tǒng)仍能生產(chǎn)除鹽水。在CEDI正常工作時(shí),流經(jīng)混床的離子濃度極低,所以混床的更換頻率非常低。
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